詳細情報 |
|||
材料: | 水晶ゲルマニウム | オリエンテーション: | 100 |
---|---|---|---|
サイズ: | 4Inch | 厚さ: | 500um |
添加される: | NタイプのSb添加されるか、またはGa添加される | 表面: | SSP |
TTV: | 《10um | 抵抗: | 1-10ohm.cm |
MOQ: | 10PCS | 適用: | 赤外線バンド |
ハイライト: | ゲルマニウムの半導体の基質,GEのウエファーのゲルマニウムの基質,二酸化炭素のレーザーのシリコンの薄片の基質 |
製品の説明
4inch赤外線二酸化炭素のレーザーのためのNタイプGEのウエファーのゲルマニウムの基質GEの窓
GE材料は導入する
光学材料の間で、ゲルマニウム材料は赤外線および夜間視界の技術でますます広く利用されている。ゲルマニウムはIV主要なグループ要素に属し、ダイヤモンドの構造がある。ゲルマニウムに比較的優秀で物理的な、化学特性がある。それは半導体材料、赤外線光学材料、化学触媒、医学の適用で主に使用され、赤外線光学材料の優秀のとして他のある新しい使用分野は、特に使用した。ゲルマニウムは安定した水で不溶解性、化学的にであり可視ライトの地域で不透明である。ゲルマニウムにマイクロウェーブによい透磁率がある。ゲルマニウムは比較的壊れやすい材料で、悪い機械衝撃抵抗がある。ゲルマニウムが赤外線材料として使用されるとき、処理の焦点は材料の表面に高い終わりおよびよい伝送があることを保障することである。光学ガラスと比較されて、ゲルマニウムに実験に回転技術に処理材料として機械特性、そうゲルマニウムの水晶である特定の利点が選ばれるある。プロセス用機器として光学処理材料および通常のCNCの旋盤として水晶プロセスを処理し、ひく従来の光学部品を取り替えるためにゲルマニウムを使用して多くの実験の後で、一組の回転プロセスは開発された。労働の効率。
探知器として光源そしてpyroelectricカメラとして二酸化炭素レーザーを使用して、単一スリット回折イメージは集められた。単一スリット回折の原則に従って、異なった焦点距離の赤外線ゲルマニウム レンズのグループの白黒焦点距離は測定され、測定された結果は与えられた。テストに影響を与える主要な誤り要因。見本抽出されたデータの調節伝達関数の計算によって、テストの下のレンズの焦点面の位置は正確に定めることができる。画像収集システムの長さそしてサイズの正確な口径測定方法はもたらされる。
可視ライトの範囲では、焦点距離を定めるための一般的な方法は次のとおりである:拡大方法、精密ゴニオメーター方法、聖職者の焦点距離のメートル方法、等。上記の方法は可視ライトのための幾何学的な光学の原則に、基づいている。物理的な光学の原則、およびレンズの白黒焦点距離に従ってTaberの効果および単一スリット回折のような方法によって測定することができる。これらの方法のほとんどはフォトディテクターとして商業化されたCCDsを使用する。中間ずっとの赤外線バンドの赤外線バンドでは、特に、赤外線ライトは見えなく、赤外線バンドで使用される高精度のフォトディテクターは高く、広く利用されていない、従って一般に赤外線光学系の焦点距離を測定することは困難である。システムの焦点距離は測定される。赤外線赤外線画像の技術の開発によって、赤外線光学系の質はますます重要になる。赤外線光学系の基本的な独特変数が、焦点距離正確に定められなければならないように。主義は光源として二酸化炭素レーザーが付いている赤外線ゲルマニウム レンズの焦点距離を測定することである。
ゲルマニウムの基質
私達が提供してもいいプロダクト
項目
|
Y/N
|
項目
|
Y/N
|
項目
|
Y/N
|
水晶ゲルマニウム
|
はい
|
電子等級
|
はい
|
Nのタイプ
|
はい
|
ゲルマニウムのブランク
|
はい
|
赤外線等級
|
はい
|
Pのタイプ
|
はい
|
ゲルマニウムの基質
|
はい
|
細胞の等級
|
はい
|
Undoped
|
ye
|
熱特性:
|
|
熱拡張
|
5.9 x 10-6 °C -1 @ 300K
|
融点
|
937°C
|
温度伝導率
|
0.36 cm2s-1
|
熱伝導性
|
0.58 W cm-1 °C-1
|
比熱
|
0.31 J g-1 °C-1
|
機械特性:
|
|
若い係数
|
10.3x1011 dyn cm-2 @ 300Kの
|
せん断の係数
|
4.1x 1011のdynのcm-2
|
Knoopの硬度
|
780のkg mm2
|
ポアソンの定数
|
0.26
|
電気特性:
|
|
比誘電率
|
16.2
|
Resisitivity
|
9.0オームcm
|
光学的性質:
|
|
伝達
|
2 - 45°頃14μmのfino a
|
R.i.
|
4.025 @ 4μm
|
4.005 @ 10μm
|
プロダクト細部:
mpurityのレベルより少なくより10 ³ atoms/cmの³
材料: GE
成長: cz
等級: 主な等級
タイプ/添加物:undopedタイプN
オリエンテーション:[100] ±0,3º
直径:100,0のmm ±0,2 mm
厚さ:500 µm ±25のµm
平たい箱:32のmm ±2 mm @ [110] ±1º
抵抗:55-65 Ohm.cm
EPD: < 5000="">
前側:磨かれる(epi準備ができた、RAの <0>
裏側:ひかれる/エッチングされる
TTV: <10>
粒子:0.3
レーザーの印が付いていること:どれも
包装:単一のウエファー
製品の説明:
ゲルマニウムの広い分光動作範囲(2-16µm)および目に見えるスペクトル領域の不透明ゲルマニウムを赤外線レーザーの塗布のためにうってつけにするため。
それはまた空気、水、アルカリの金属および酸と容易に反応しない(硝酸を除いて)。(サイズを処理する:Φ5-Φ150)
適用:
ゲルマニウム レンズは赤外線温度計、赤外線熱探知カメラ、赤外線レンズ、二酸化炭素のレーザーおよび他の装置で主に使用される。
私達の利点:
ZMSHは基材として光学等級のsingle-crystalゲルマニウムを使用し、新しい磨く技術と処理されるゲルマニウム レンズを作り出す。
高い表面の精密、8-14μmの反射防止フィルムは基質の反射力を非常に減らし、反射防止の効果を高めることができるゲルマニウム レンズの双方で塗られる。
膜の働きバンドの伝送は95%以上達する。